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國內(nèi)首個(gè)自主開發(fā)180nm成套硅光工藝PDK在重慶發(fā)布
來源: | 作者:pmt01eb03 | 發(fā)布時(shí)間: 1797天前 | 1693 次瀏覽 | 分享到:

5月28-30日,第二屆中歐國際硅光技術(shù)研討會(huì)在重慶成功召開。備受期待的聯(lián)合微電子中心有限責(zé)任公司(CUMEC公司)180nm成套硅光工藝PDK(process design kit)發(fā)布會(huì)也于今(30)日成功舉辦。


這標(biāo)志著CUMEC公司具備硅基光電子領(lǐng)域全流程自主工藝制造能力,開始向全球提供硅光芯片流片服務(wù)和EPDA設(shè)計(jì)服務(wù)。


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發(fā)布會(huì)上,CUMEC公司執(zhí)行董事兼總經(jīng)理韓建忠博士在現(xiàn)場(chǎng)致辭中表示,CUMEC公司將始終堅(jiān)持開放合作的發(fā)展理念,穩(wěn)步實(shí)現(xiàn)國際一流的高端特色工藝平臺(tái)建設(shè)目標(biāo),與同行專家學(xué)者海內(nèi)外朋友一道,共同為硅基光電子技術(shù)與產(chǎn)業(yè)應(yīng)用的發(fā)展貢獻(xiàn)智慧和力量。


近幾年,硅光芯片被廣為提及,是世界各大國搶先布局的重點(diǎn),被認(rèn)為是芯片領(lǐng)域“換道超車”的核心技術(shù)。


5G時(shí)代,數(shù)據(jù)傳輸需求越來越高,傳統(tǒng)的電芯片在信號(hào)傳輸模式上遇到了帶寬、功耗、延時(shí)等一系列瓶頸問題。將光引入芯片,可以提高傳輸性能實(shí)現(xiàn)帶寬100倍以上的增長,同時(shí)功耗和尺寸還有大幅度的降低。


硅基光電子芯片技術(shù),則是將光的極高帶寬、超快速率和高抗干擾特性,以及微電子技術(shù)在大規(guī)模集成、低成本等方面的優(yōu)勢(shì)進(jìn)行結(jié)合,形成一個(gè)完整的具有綜合功能的新型大規(guī)模光電集成芯片。


這種芯片適用于5G、數(shù)據(jù)中心、無人駕駛、人工智能等領(lǐng)域。因此,在重慶的大數(shù)據(jù)智能化發(fā)展中,硅基光電子芯片極具想象空間。


歐洲硅光聯(lián)盟主席、比利時(shí)根特大學(xué)教授、imec高級(jí)研究員Roel Baets從比利時(shí)發(fā)來線上致辭,他表示,硅基光電子技術(shù)作為一項(xiàng)新興技術(shù)正在快速發(fā)展,產(chǎn)業(yè)化速度亦在不斷加快,CUMEC公司發(fā)布的180nm成套硅光工藝PDK令人振奮,相比集成電路工業(yè)無比成熟的PDK,硅基光電子領(lǐng)域的PDK雖然已經(jīng)出現(xiàn)了幾個(gè),但是還很單薄,還在發(fā)展的早期,CUMEC公司發(fā)布的PDK是硅光領(lǐng)域的一大進(jìn)步。

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